Η τελευταία μαζική παραγωγή είναι 7nm! Η τεχνολογία EUV της Samsung για τη χύτευση V1 στην Κορέα

Σύμφωνα με την έκθεση για την ταχεία τεχνολογία, η Samsung ανακοίνωσε σήμερα (20) ότι θα ανοίξει μια νέα γραμμή παραγωγής χυτοσιδήρου V1 που ειδικεύεται στην τεχνολογία EUV (Extreme Ultraviolet Lithography) στο βιομηχανικό πάρκο Hwaseong της Νότιας Κορέας, με μαζική παραγωγή 7nm.

Εννοείται ότι η γραμμή παραγωγής V1 ξεκίνησε τον Φεβρουάριο του 2018 και η παραγωγή πλακιδίων θα ξεκινήσει το δεύτερο εξάμηνο του 2019. Τα πρώτα προϊόντα θα παραδοθούν στους πελάτες το πρώτο τρίμηνο του τρέχοντος έτους. Προς το παρόν, η V1 έχει επενδύσει στην παραγωγή κινητών chips 7nm και 6nm EUV και σχεδιάζει να είναι χυτήριο στην υψηλότερη κλίμακα 3nm στο μέλλον.

Σύμφωνα με τη συμφωνία της Samsung, μέχρι το τέλος του 2020, η συνολική επένδυση της γραμμής παραγωγής V1 θα φτάσει τα 6 δισεκατομμύρια δολάρια ΗΠΑ και η συνολική παραγωγική ικανότητα των προηγμένων διαδικασιών κάτω από τα 7nm θα είναι τριπλάσια από εκείνη του 2019. Ο Δρ ES Jung, της εταιρείας κατασκευής της Samsung, δήλωσε ότι η γραμμή V1 θα λειτουργήσει με τη γραμμή S3 για να βοηθήσει την εταιρεία να επεκτείνει τους πελάτες της και να ανταποκριθεί στη ζήτηση της αγοράς.

Η Samsung έχει τώρα έξι fabs στον κόσμο, συμπεριλαμβανομένου ενός 8-ιντσών και πέντε 12 ιντσών. Προηγουμένως, η Samsung Electronics δήλωσε ότι σχεδίαζε να επενδύσει 133 τρισεκατομμύρια κέρδη για την αναβάθμιση της επιχείρησης ημιαγωγών έως το 2030.

Σύμφωνα με το σχέδιο, 73 τρισεκατομμύρια κέρδη από τα 133 τρισεκατομμύρια κερδισμένες επενδύσεις είναι δαπάνες τεχνολογικής έρευνας και ανάπτυξης και 60 τρισεκατομμύρια κέρδη είναι η κατασκευή της υποδομής FAB, η οποία αναμένεται να δημιουργήσει 15.000 θέσεις εργασίας. Ο στόχος της Samsung είναι να φτάσει το 2030 όχι μόνο για να διατηρήσει το προβάδισμα στα μάρκες μνήμης, αλλά και για να γίνει ηγέτες σε λογικά τσιπ.